Allgemeine Vorhabenbeschreibung

Mit Datum vom 13. Mai 2024 beantragte die Robert Bosch Semiconductor Manufacturing Dresden GmbH die Genehmigung nach § 16 des Gesetzes zum Schutz vor schädlichen Umwelteinwirkungen durch Luftverunreinigungen, Geräusche, Erschütterungen und ähnliche Vorgänge in Verbindung mit § 1 und den Nummern 5.1.1.1, 5.1.1.2, 8.8.1.2 und 9.3.2 des Anhangs 1 der Verordnung über genehmigungsbedürftige Anlagen (4. BImSchV) in der Fassung der Bekanntmachung vom 31. Mai 2017 (BGBl. I S. 1440), die zuletzt durch Artikel 1 der Verordnung vom 12. November 2024 (BGBl. 2024 I Nr. 355) geändert worden ist, für die wesentliche Änderung einer Anlage zur Behandlung von Oberflächen unter Verwendung von organischen Lösungsmitteln. Antragsgegenstand ist eine Erweiterung der Produktionskapazitäten der Anlage. Der bisherige Lösungsmittelverbrauch der Anlage Nasschemie beträgt 140 Tonnen je Jahr, der Anlage Lithografie 70 Tonnen je Jahr und der Anlage Teilereinigung 40 Tonnen je Jahr. In Rahmen der Erweiterung der Produktionskapazitäten soll sich der Verbrauch an organischen Lösungsmitteln auf insgesamt 340 Tonnen je Jahr erhöhen.

UVP-Kategorie

Verfahrensschritte

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